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當前位置:首頁產(chǎn)品中心光譜儀全影像校正光譜儀Major-300i全影像校正光譜儀

全影像校正光譜儀

產(chǎn)品簡介

Major-300i全影像校正光譜儀,采用高性能像差校正光學設計,分辨率達0.10nm,支持多光柵塔臺切換與多光譜測試模式,廣泛應用于拉曼、熒光、顯微光譜、透反吸光譜等科研場景,是一款緊湊穩(wěn)定的高性能光譜探測設備。

產(chǎn)品型號:Major-300i
更新時間:2026-08-26
廠商性質:生產(chǎn)廠家
訪問量:108
詳細介紹在線留言

全影像校正光譜儀


? 產(chǎn)品概述:

w   光學設計:采用像差校正光路設計,提升成像質量與光譜分辨率。

w   驅動控制:閉環(huán)電機驅動,無回程誤差,實現(xiàn)高精度波長定位。

w   精密狹縫:保證入射光斑穩(wěn)定,提高光譜分辨能力與測試一致性。

w   機械結構:緊湊式高剛性結構設計,占用空間小,光路穩(wěn)定性優(yōu)異。

w   光柵系統(tǒng):支持三光柵 Turret 塔臺切換,可靈活覆蓋不同波段與分辨率需求。

w   掃描方式:支持正負波長雙向高速掃描,減少波長切換時間,提高測試效率。

w   外部擴展:支持光纖接口、電動濾光片轉輪、電動快門等多種擴展配件。

w   輸出接口:提供多種可定制出光口,便于對接外部探測與成像設備。

w   鍍膜工藝:采用高性能光學鍍膜技術,提高光通量并有效抑制雜散光。

w   軟件與開發(fā):配套友好操作軟件,支持 PL、Trans/Abs、Raman、LIBS 等測試模式,并提供完整 SDK 便于二次開發(fā)與系統(tǒng)集成。

w   應用場景:廣泛應用于拉曼光譜、熒光光譜、吸收/透射光譜、顯微光譜、光致發(fā)光(PL)、等離子體診斷及 LIBS 等領域。


?  技術規(guī)格(@1200g/mm光柵):

型號

Major-300i

焦距(mm)

300mm

相對孔徑

f/3.9

光譜分辨率(nm)@PMT

0.10 nm(狹縫寬20 μm)

光譜分辨率(nm)@CCD

0.10 nm

倒線色散(nm/mm)

2.37 nm/mm

在28 mm寬CCD上的波長覆蓋范圍

(CCD單次拍譜范圍)

66.3 nm

焦平面尺寸

36 mm×51 mm

掃描范圍

0-1500 nm

掃描步距

0.008 nm/step

波長準確度

0.2 nm

波長重復性

±0.02 nm

轉塔

Turret式光柵塔

光柵切換重復性

0.02 nm

光柵尺寸

68 mm×68 mm

允許配置的轉塔數(shù)量

最多3個光柵

計算機接口

USB2.0



?  光柵配置:

光柵配置

Grating 1

Blaze wavelength

Grating 2

Blaze wavelength

Grating 3

Blaze wavelength

紫外配置 1

600 g/mm

300 nm

1200 g/mm

300 nm

2400 g/mm

250 nm

紫外配置 2

1200 g/mm

300 nm

1800 g/mm

250 nm

2400 g/mm

250 nm

紫外-可見-

近紅外

600 g/mm

300 nm

600 g/mm

500 nm

600 g/mm

750 nm

可見配置

300 g/mm

500 nm

600 g/mm

500 nm

1200 g/mm

500 nm

紅外配置 1

300 g/mm

1200 nm

600 g/mm

1000 nm

1200 g/mm

1000 nm

紅外配置 2

150 g/mm

1250 nm

300 g/mm

1200 nm

600 g/mm

1600 nm





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